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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Sputtered gold-coated ITO nanowires by alternating depositions from Indium and ITO targets for application in surface-enhanced Raman scattering

Texto completo
Autor(es):
Setti, Grazielle O. [1, 2] ; Mamian-Lopez, Monica B. [1] ; Pessoa, Priscila R. [1] ; Poppi, Ronei J. [1] ; Joanni, Ednan [2] ; Jesus, Dosil P. [1]
Número total de Autores: 6
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Univ Estadual Campinas, Inst Chem, BR-13083970 Campinas, SP - Brazil
[2] Renato Archer Informat Technol Ctr, BR-13069901 Campinas, SP - Brazil
Número total de Afiliações: 2
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Applied Surface Science; v. 347, p. 17-22, AUG 30 2015.
Citações Web of Science: 9
Resumo

Indium Tin oxide (ITO) nanowires were deposited by RF sputtering over oxidized silicon using ITO and Indium targets. The nanowires grew on the substrate with a catalyst layer of Indium by the vapor-liquid-solid (VLS) mechanism. Modifications in the deposition conditions affected the morphology and dimensions of the nanowires. The samples, after being covered with gold, were evaluated as surface-enhanced Raman scattering (SERS) substrates for detection of dye solutions and very good intensifications of the Raman signal were obtained. The SERS performance of the samples was also compared to that of a commercial SERS substrate and the results achieved were similar. To the best of our knowledge, this is the first time ITO nanowires were grown by the sputtering technique using oxide and metal targets. (C) 2015 Elsevier B.V. All rights reserved. (AU)

Processo FAPESP: 13/25108-9 - Fabricação de substratos nanoestruturados para aplicação em intensificação do Espalhamento Raman por superfície
Beneficiário:Grazielle de Oliveira Setti Gibin
Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Doutorado
Processo FAPESP: 13/22485-6 - Desenvolvimento e aplicação de eletroextração em membrana em métodos eletroforéticos de análises
Beneficiário:Dosil Pereira de Jesus
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Regular