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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Ar/Cl-2 etching of GaAs optomechanical microdisks fabricated with positive electroresist

Texto completo
Autor(es):
Benevides, Rodrigo [1, 2] ; Menard, Michael [3] ; Wiederhecker, Gustavo S. [1, 2] ; Mayer Alegre, Thiago P. [1, 2]
Número total de Autores: 4
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Univ Estadual Campinas, Gleb Wataghin Phys Inst, Appl Phys Dept, BR-13083859 Campinas, SP - Brazil
[2] Univ Estadual Campinas, Photon Res Ctr, BR-13083859 Campinas, SP - Brazil
[3] Univ Quebec Montreal, Dept Comp Sci, Montreal, PQ H2X 3Y7 - Canada
Número total de Afiliações: 3
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: OPTICAL MATERIALS EXPRESS; v. 10, n. 1, p. 57-67, JAN 1 2020.
Citações Web of Science: 0
Resumo

A method to fabricate GaAs microcavities using only a soft mask with an electrolithographic pattern in an inductively coupled plasma etching is presented. A careful characterization of the fabrication process pinpointing the main routes for a smooth device sidewall is discussed. Using the final recipe, optomechanical microdisk resonators are fabricated. The results show very high optical quality factors of Q(opt) > 2 x 10(5), among the largest already reported for dry-etching devices. The final devices are also shown to present high mechanical quality factors and an optomechanical vacuum coupling constant of g(0) = 2 pi x 13.6 kHz enabling self-sustainable mechanical oscillations for an optical input power above 1 mW. (C) 2019 Optical Society of America under the terms of the OSA Open Access Publishing Agreement (AU)

Processo FAPESP: 12/17765-7 - Nanofotônica em semicondutores do Grupo IV e III-V
Beneficiário:Gustavo Silva Wiederhecker
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores
Processo FAPESP: 16/18308-0 - Optomecânica Quântica em Microcavidades
Beneficiário:Rodrigo da Silva Benevides
Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Doutorado
Processo FAPESP: 18/15577-5 - Circuitos nanofotônicos não-lineares: blocos fundamentais para síntese de frequências ópticas, filtragem e processamento de sinais
Beneficiário:Gustavo Silva Wiederhecker
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores - Fase 2
Processo FAPESP: 19/01402-1 - Guias de onda acústicos integrados em regime de fônons únicos
Beneficiário:Rodrigo da Silva Benevides
Linha de fomento: Bolsas no Exterior - Estágio de Pesquisa - Doutorado
Processo FAPESP: 12/17610-3 - Optomecânica em cristais fotônicos e fonônicos
Beneficiário:Thiago Pedro Mayer Alegre
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores
Processo FAPESP: 18/15580-6 - Cavidades optomecânicas rumo ao acoplamento forte com fótons únicos
Beneficiário:Thiago Pedro Mayer Alegre
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores - Fase 2