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(Referência obtida automaticamente do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Estimating the Electrochemically Active Area: Revisiting a Basic Concept in Electrochemistry

Texto completo
Autor(es):
Dyovani Coelho [1] ; Giuliana M. Luiz [2] ; Sergio A. S. Machado [3]
Número total de Autores: 3
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Universidade de São Paulo. Instituto de Química de São Carlos. Grupo de Materiais Eletroquímicos e Métodos Eletroanalíticos - Brasil
[2] Universidade de São Paulo. Instituto de Química de São Carlos. Grupo de Materiais Eletroquímicos e Métodos Eletroanalíticos - Brasil
[3] Universidade de São Paulo. Instituto de Química de São Carlos. Grupo de Materiais Eletroquímicos e Métodos Eletroanalíticos - Brasil
Número total de Afiliações: 3
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Journal of the Brazilian Chemical Society; v. 32, n. 10, p. 1912-1917, 2021-10-01.
Resumo

The well-known electrochemical probe Fe(CN)63-/Fe(CN)64- is widely used for estimating the electrochemically active area of electrodes modified with carbon nanotubes, conductive polymers, enzymes, etc. In this study, we used the platinum electrode, smooth or platinized with different roughness factors, to demonstrate that such a redox couple fails to respond to a surface roughness variation. We determined the roughness factors of the Pt surfaces by atomic force microscopy (AFM) images, which yielded values between 2.72 and 25.91. Almost the same values were found by using the charge of the hydrogen monolayer desorption obtained from steady-state cyclic voltammetry experiments performed in an acid medium. They were then compared with those provided by peak current in voltammetry or chronoamperometry with Fe(CN)63-/Fe(CN)64- which all yielded values nearly to one. Such comparison demonstrates that the electrochemical behavior of the redox probe is an outer sphere reaction with a quite small interaction with the electrode surface, thus not being suitable to be related with active areas. (AU)

Processo FAPESP: 11/07022-4 - Utilização da eletrodeposição em regime de subtensão na dopagem de filmes semicondutores eletrodepositados de selênio
Beneficiário:Dyovani Coelho
Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Doutorado
Processo FAPESP: 13/17053-0 - Desenvolvimento de uma metodologia eletroquímica de dopagem seletiva de filmes semicondutores eletrodepositados de selênio baseado na eletrodeposição em regime de subtensão
Beneficiário:Sergio Antonio Spinola Machado
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Regular