Busca avançada
Ano de início
Entree


Optimizing the antimicrobial efficacy of dental poly (methyl methacrylate) through Al2O3 atomic layer deposition

Texto completo
Autor(es):
Leite, Lady Daiane P. ; Chiappim Junior, William ; Pessoa, Rodrigo S. ; Koga-Ito, Cristiane Y.
Número total de Autores: 4
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Journal of Materials Research; v. N/A, p. 12-pg., 2025-10-07.
Resumo

Poly(methyl methacrylate) (PMMA) is extensively used in dentistry for its aesthetics, processability, and affordability, but its susceptibility to Candida albicans contributes to denture stomatitis. This study explores atomic layer deposition (ALD) of aluminum oxide (Al2O3) as a post-fabrication strategy to suppress fungal colonization without altering PMMA bulk properties. PMMA discs were coated with 250-3000 ALD cycles (12.5-150 nm) and characterized by SEM/EDS, FTIR, and water contact angle; antifungal activity was assessed after 24 h with C. albicans ATCC 18804. Thin coatings (12.5-25 nm) increased hydrophobicity (73 -> 88 degrees), reduced surface free energy (similar to 20 mJ m(-2)), and maintained nanoroughness < 10 nm, lowering fungal counts by 50% (p < 0.01). Thicker films (>= 50 nm) developed microcracks, restoring surface energy and fungal adhesion. Thus, an optimal ALD window (12.5-25 nm) was identified where defect-free Al2O3 nanofilms effectively halve colonization, representing a promising route to extend PMMA prosthesis lifespan and reduce biofilm-related infections. (AU)

Processo FAPESP: 19/05856-7 - Aplicações de plasmas atmosféricos não-térmicos na odontologia: da bancada para a clínica
Beneficiário:Cristiane Yumi Koga Ito
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Temático
Processo FAPESP: 22/00266-0 - AVALIAÇÃO DA ATIVIDADE ANTIMICROBIANA DE POLIMETILMETACRILATO (PMMA) REVESTIDO COM FILMES FINOS DE Al2O3 CRESCIDOS PELA TECNOLOGIA DE DEPOSIÇÃO POR CAMADA ATÔMICA APRIMORADA COM ÁGUA ATIVADA POR PLASMA PARA APLICAÇÃO ODONTOLÓGICA
Beneficiário:Lady Daiane Pereira Leite
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
Processo FAPESP: 22/11544-0 - EMU tecnológico: aquisição de um sistema de microscopia óptica de varredura de campo próximo acoplado com microscopia de força atômica e espectroscopia Raman aprimorada por ponta para imageamento químico e físico em micro e nanoescala
Beneficiário:Rodrigo Savio Pessoa
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa Infraestrutura - Tecnologia e Inovação