Evidence of local and global scaling regimes in thin films deposited by sputtering: An atomic force microscopy and electrochemical study

Souza Cruz‚ T.G.; Kleinke‚ MU; Gorenstein‚ A.

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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Evidence of local and global scaling regimes in thin films deposited by sputtering: An atomic force microscopy and electrochemical study

Texto completo
Autor(es):	Souza Cruz‚ T.G. ; Kleinke‚ MU ; Gorenstein‚ A. Número total de Autores: 3
Tipo de documento:	Artigo Científico
Fonte:	Applied Physics Letters; v. 81, n. 26, p. 4922-4924, 2002.

Processo FAPESP:	98/14769-2 - Observação e caracterização de não-estruturas por microscopia de força atômica
Beneficiário:	Omar Teschke
Modalidade de apoio:	Auxílio à Pesquisa - Programa Equipamentos Multiusuários


Processo FAPESP:	98/00501-8 - Leis de escala e propriedades de transporte em filmes finos depositados por sputtering.
Beneficiário:	Tersio Guilherme de Souza Cruz
Modalidade de apoio:	Bolsas no Brasil - Doutorado

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