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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Evidence of local and global scaling regimes in thin films deposited by sputtering: An atomic force microscopy and electrochemical study

Texto completo
Autor(es):
Souza Cruz‚ T.G. ; Kleinke‚ MU ; Gorenstein‚ A.
Número total de Autores: 3
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Applied Physics Letters; v. 81, n. 26, p. 4922-4924, 2002.
Processo FAPESP: 98/14769-2 - Observação e caracterização de não-estruturas por microscopia de força atômica
Beneficiário:Omar Teschke
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa Equipamentos Multiusuários
Processo FAPESP: 98/00501-8 - Leis de escala e propriedades de transporte em filmes finos depositados por sputtering.
Beneficiário:Tersio Guilherme de Souza Cruz
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado