Crescimento de diamante CVD em substratos de silício de grande área

Moro‚ J.R.; Trava-Airoldi‚ V.J.; Corat‚ E.J.; Neto‚ J.E.; Amorim‚ A.; Alves‚ A.R.

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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Crescimento de diamante CVD em substratos de silício de grande área

Texto completo
Autor(es):	Moro‚ J.R. ; Trava-Airoldi‚ V.J. ; Corat‚ E.J. ; Neto‚ J.E. ; Amorim‚ A. ; Alves‚ A.R. Número total de Autores: 6
Tipo de documento:	Artigo Científico
Fonte:	Rem: Revista Escola de Minas; n. 2, p. 279-285, 2010.

Processo FAPESP:	03/08930-5 - Crescimento de diamante-CVD em grandes áreas em reator assistido por filamento quente
Beneficiário:	João Roberto Moro
Modalidade de apoio:	Auxílio à Pesquisa - Regular

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