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Materiais semicondutores amorfos

Processo: 91/03635-6
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Temático
Data de Início da vigência: 01 de novembro de 1992
Data de Término da vigência: 31 de março de 1997
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física
Pesquisador responsável:Fernando Alvarez
Beneficiário:Fernando Alvarez
Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
Assunto(s):Semicondutividade  Semicondutores  Semicondutores amorfos  Dispositivos eletrônicos  Propriedades dos materiais 

Resumo

O projeto se refere à ciência e tecnologia dos semicondutores amorfos. Estes materiais constituem hoje uma das fronteiras da física do estado sólido e da tecnologia eletrônica. Pretende-se pesquisar as propriedades básicas de ligas amorfas hidrogenadas de coordenação tetraédrica, ou seja, aquelas que envolvem os elementos mais leves da coluna IV da tabela periódica dos elementos químicos (C, Si e Ge). Os materiais específicos a serem pesquisados são: a-Si:H, a-Si:C:H, a-Ge:H, a-Ge:Si:H. A estes semicondutores elementares ou a suas ligas serão adicionadas impurezas dopantes (B, P, AL, Sb, In, Ga, N, etc.) a fim de fabricar alguns dispositivos eletrônicos como por exemplo: células solares, dispositivos eletroluminescentes, poços quânticos e superredes, dispositivos de barreira superficial, etc. (AU)

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