Caracterização de superfícies cloradas a plasma e de filmes finos clorados depositados a plasma

• Processo: 14/21594-9
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de agosto de 2015
• Data de Término da vigência: 31 de outubro de 2017
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Steven Frederick Durrant
• Beneficiário: Steven Frederick Durrant
• Instituição Sede: Instituto de Ciência e Tecnologia. Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Sorocaba. Sorocaba , SP, Brasil
• Assunto(s): Deposição de filmes finos Filmes finos Propriedades ópticas Tecnologia de plasma Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD) Espectroscopia
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Deposição a plasma | Filmes clorados | Filmes finos | Ftir | pecvd | Propriedades Ópticas | tratamento a plasma | Xps | Filmes finos

Resumo

A deposição de filmes finos amorfos clorados e a cloração de superfícies a plasma têm diversas aplicações, entre outras, em biomateriais, na modificação de tecidos, e na produção de filmes de silício hidrogenado com excelentes características elétricas. A presente proposta visa primeira a produção de superfícies cloradas a plasma e o estudo da estrutura química e a estequiometria destas superfícies em função dos parâmetros do processo, tais como os gases usados e seus fluxos, a potência aplicada e o tempo de exposição. Serão investigadas as influências da estrutura química em propriedades como a morfologia, a rugosidade, o e ângulo de contato. Uma segunda vertente do plano é a produção por Deposição a Vapor Químico Assistido por Plasma (PECVD) de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado e clorado e similares. Assim, os filmes serão tais como a-C:H:Cl, a-C:H:N:Cl e a-C:H:Si:Cl, que podem ser produzidos a partir de plasmas de compostos como C2H5OH e comonômeros clorados como CHCl3 ou CCl4, ou monômeros como C2H2Cl4, com ou sem um gás plasmogênico. Em relação aos filmes, suas composições elementares e estruturas químicas serão investigadas, através de espectroscopias no de Transformada de Fourier no infravermelho e de Fotoelétrons elétrons de Raios-X (FTIR e XPS) em função dos parâmetros do sistema (tipo de gases, fluxos, potência aplicada, etc.). É pleiteada uma sonda óptica para determinar as espessuras dos filmes com boa exatidão e rapidez. Microscopia de Força Atômica será empregada para examinar a morfologia e rugosidade das superfícies tratadas e dos filmes depositados. Para os filmes, Espectroscopia ultravioleta-visível (UVS) também será usada (Perkin Elmer, modelo Lambda 750), na faixa de comprimento de onda de 200 nm a 3300 nm, para obter espectros de transmitância. A partir destes espectros e medidas da espessura dos filmes será calculado o índice de refração, n, o coeficiente de absorção, a(E), e o gap óptico, ETauc ou E04, dos materiais. O uso de modelos semi-empíricos permitirá vincular a estrutura química dos filmes clorados com suas propriedades ópticas. (AU)

Publicações científicas

(10)

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

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