Sílica vítrea de alto desempenho óptico produzida por método de aerosol em chama p...
Dopagem de GeO2 em preforma de sílica vítrea VAD para fibras ópticas: caracterizaç...
Processo: | 06/00264-4 |
Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Iniciação Científica |
Data de Início da vigência: | 01 de maio de 2006 |
Data de Término da vigência: | 30 de abril de 2007 |
Área de conhecimento: | Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos |
Pesquisador responsável: | Carlos Kenichi Suzuki |
Beneficiário: | Eric Fujiwara |
Instituição Sede: | Faculdade de Engenharia Mecânica (FEM). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil |
Assunto(s): | Fibra óptica Deposição axial na fase vapor Automação |
Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Automacao | Nucleo Eliptico | Tecnologia Vad | Automação/Fotônica |
Resumo Fibras ópticas mantedoras de polarização apresentam a propriedade de controlar o estado ou a fase de polarização da luz através de um alto grau de birrefringência, gerado por aplicadores de tensão ou por elipsidades no núcleo ou na casca da fibra, e são utilizadas em sistemas ópticos coerentes e na produção de filtros, giroscópios ópticos e polarizadores, e transmissão avançada de informação por DWDM ("dense wavelength division multiplexing"). Os atuais métodos de produção de preformas elípticas consistem em cortes nas laterais da preforma cilíndrica ou deformações através de efeito térmico e prensagem, o que demanda etapas adicionais de processamento e elevado custo. Visando um processo inédito, foi desenvolvido como atividade prévia à elaboração do presente projeto, com o intuito de demonstrar a sua viabilidade, uma técnica inovadora de produção de preformas-núcleo elípticas pelo método VAD com a variação da velocidade de rotação da preforma durante a etapa de deposição. Embora esta idéia tenha sido concretizada, o objetivo principal do projeto é o desenvolvimento de um sistema de automação com software em ambiente LabVIEW, que fará o controle dos motores da câmara de deposição variando a velocidade de um valor máximo até o repouso a cada ¼ de volta, fazendo com que haja duas regiões com taxa de deposição máxima e duas regiões com taxa de deposição mínima. Serão produzidas preformas com diversas condições e parâmetros de processo. Ao final, serão utilizados softwares de tratamento de imagem, permitindo que sejam estipuladas correlações entre a geometria da preforma e as variáveis de processo e padrões para reprodutibilidade. (AU) | |
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SISTEMA DE CONTROLE PARA USO EM PROCESSO DE FABRICAÇÃO DE PREFORMA NÃO-CIRCULAR, PROCESSO UTILIZANDO REFERIDO SISTEMA E PREFORMA DE SÍLICA OBTIDA POR MEIO DO REFERIDO PROCESSO PI0706109-9 - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) . Carlos Kenichi Suzuki ; Eric Fujiwara ; Eduardo Ono - 18 de julho de 2007