| Processo: | 98/01766-5 |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado |
| Data de Início da vigência: | 01 de junho de 1998 |
| Data de Término da vigência: | 31 de maio de 1999 |
| Área de conhecimento: | Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada |
| Pesquisador responsável: | Johnny Vilcarromero López |
| Beneficiário: | Johnny Vilcarromero López |
| Instituição Sede: | Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil |
| Assunto(s): | Filmes finos Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD) Nitreto de boro |
| Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Estrutura | Filmes Finos | Microcristais | Nitreto De Boro | Pecvd |
Resumo O presente projeto pretende a obtenção e estudo das propriedades das amostras de Nitreto de Boro obtida pela técnica de plasma enhanced vapour deposition (PECVD) em temperaturas abaixo de 600 C. A preparação das amostras será dirigida no sentido de se obter filmes de nitreto de boro com maiores taxas de crescimento e de otimizar as condições de deposição para a obtenção de filmes com uma maior presença de micro-cristais, preferencialmente de fase cúbica (tipo diamante). O estudo das propriedades também será dirigido no sentido de aprofundar o conhecimento da relação entre os parâmetros de deposição e as propriedades dos filmes. (AU) | |
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