Caracterização quantitativa da contaminação por material particulado em superfícies de lâminas de silício utilizando as técnicas de espalhamento de luz laser e microscopia de força atômica

• Processo: 98/01642-4
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de junho de 1998
• Data de Término da vigência: 31 de agosto de 2001
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Sebastiao Gomes dos Santos Filho
• Beneficiário: Jose Candido de Souza Filho
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Angle-Resolved Scatterino | Contaminacao | Espalhamento De Luz | Material Particulado | Microscopia De Forca Atomica | Superficies

Resumo

Neste trabalho serão investigados os possíveis mecanismos pelos quais partículas dos mais diversos tamanhos podem aderir em superfícies de lâminas de silício e que mais tarde possam desencadear falhas elétricas fatais em dispositivos MOS. Técnicas de caracterização envolvendo espalhamento superficial de luz LASER e microscopia de força atômica (AFM: Atomic Force Microscopy) serão empregadas na obtenção das concentrações superficiais de material particulado e também na determinação do formato médio de cada partícula em superfícies de lâminas de silício após as mesmas sofrerem os mais diversos procedimentos de limpeza química ou serem intencionalmente contaminadas com partículas. (AU)

Publicações acadêmicas

(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)

SOUZA FILHO, José Cândido de. Uma geometria alternativa para detecção do espalhamento de luz LASER por partículas e micro-rugosidades em superfícies de silício.. 2008. Tese de Doutorado - Universidade de São Paulo (USP). Escola Politécnica (EP/BC) São Paulo.