Características microestruturais de filmes finos depositados por sputtering

• Processo: 96/11893-9
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de junho de 1997
• Data de Término da vigência: 31 de maio de 2001
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Ivette Frida Cymbaum Oppenheim
• Beneficiário: Eliane de Fátima Chinaglia
• Instituição Sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Filmes finos Deposição de filmes finos Pulverização catódica Microscopia de tunelamento Microscopia de força atômica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Filmes Finos | Microscopia De Tunelamento | Microsocpia Atomica De Forca | Morfologia De Superficie | Propriedades Microestruturais | Sputtering

Resumo

Filmes finos policristalinos de elementos preferencialmente dos Grupos IV - B e I - B serão depositados usando-se Sputtering Magnetron RF e dc. A espessura dos filmes e sua composição serão determinadas com Espectroscopia de Retroespalhamento Rutherford (RBS) e sua textura com Difração de Raios - X (XRD). Estudaremos a morfologia de superfície dos filmes, em escala nanométrica, com Microscopia Atômica de Força (AFM). A viabilidade do uso de Microscopia de Tunelamento (STM) será considerada. Usando o Modelo de Zonas Estruturais de Hentzell, como guia de orientação na escolha dos parâmetros de deposição dos filmes, determinaremos as condições de preparação de filmes com estruturas granulares colunares. A influência dos parâmetros de deposição e da natureza dos substratos, no tamanho e compactação dos grãos cristalinos dos filmes, será analisada. As estruturas observadas serão interpretadas com base nos processos fundamentais de crescimento de filmes finos e na física das interações íon - superfície. (AU)

Publicações acadêmicas

(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)

CHINAGLIA, Eliane de Fátima. Caracterização nanoestrutural de filmes finos do grupo IV-B depositados por sputtering magnetron. 2002. Tese de Doutorado - Universidade de São Paulo (USP). Instituto de Física (IF/SBI) São Paulo.