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MATERIAIS FOTOCRÔMICROS DE MATRIZ POLIMÉRICA E RESPECTIVOS MÉTODO DE OBTENÇÃO E USO

Tipo de documento:Patente
Inventor(es): Celso Molina; Hernane Da Silva Barud; Sidney José Lima Ribeiro; Younes Messadeq; Marcelo Nalin
Depositante: Universidade Estadual Paulista (UNESP)
Data do depósito: 26 de março de 2009
Registro INPI:
PI0905108-2
IPC: C09K 9/02 G03C 1/73
Resumo

MATERIAIS FOTOCRÔMICROS DE MATRIZ POLIMERICA E RESPECTIVOS MÉTODO DE OBTENÇÃO E USO. A presente invenção refere-se a um material compásito, de matriz polimérica, no qual são incorporados materiais fotossensiveis, notadamente heteropoliánions (polioxometalatos POMs), partícularmente ácido fosfotúngstico, ácido siíícotúngstico, ácido fosfomolíbdico e ácido silicomofíbdico, A matriz polimérica é constituída preferencialmente por acrilato, metacrilato, acetato de celulose e hidroxipropilcelulose. Refere-se também ao processo para incorporação dos agentes fotossensíveis nas matrizes políméricas e ao uso do dito produto obtido ao final do processo.


Processo FAPESP: 07/50730-4 - Vidros e filmes finos com aplicações em fotônica e materiais fotossensíveis
Beneficiário:Marcelo Nalin
Pesquisador responsável:Marcelo Nalin
Instituição: Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR). Centro de Ciências Exatas e de Tecnologia (CCET)
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Jovens Pesquisadores