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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Thermal cross-coupling effects in side-by-side UTBB-FDSOI transistors

Texto completo
Autor(es):
Costa, Fernando J. [1] ; Trevisoli, Renan [2] ; Doria, Rodrigo T. [1]
Número total de Autores: 3
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Ctr Univ FEI, Dept Elect Engn, Sao Bernardo Do Campo - Brazil
[2] Univ Fed ABC, UFABC, Santo Andre, SP - Brazil
Número total de Afiliações: 2
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Solid-State Electronics; v. 185, NOV 2021.
Citações Web of Science: 0
Resumo

The focus of this work is to perform a first-time analysis of the thermal cross-coupling of a device on a neighbor one in advanced UTBB transistors through 3D numerical simulations, validated with experimental data from the literature. In this work, it could be observed that the temperature rise due to a self-heated device can affect the performance of a neighbor one according to the distance between them and to the bias conditions. By varying the distance of the devices from 1 mu m to 50 nm, it is shown an influence of the temperature rise due to a self-heated device in threshold voltage, subthreshold swing and in the maximum transconductance as well an increase in the thermal resistance of a neighbor device. (AU)

Processo FAPESP: 19/15500-5 - Simulação atomística das propriedades elétricas de nanofios transistores MOS
Beneficiário:Marcelo Antonio Pavanello
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular