Synthesis of pure anatase phase TiO₂ films without direct thermal control applied to the fabrication of optical structures

Autor(es)

Pellegrini, Paloma E. S. ; Leitao, Luana de Moraes ; Poma, Freddy Jara ; Cioldin, Frederico H. ; Nista, Silvia V. G. ; Moshkalev, Stanislav ; Hernandez-Figueroa, Hugo E.

• Tipo de documento: Artigo Científico
• Fonte: 2024 SBFOTON INTERNATIONAL OPTICS AND PHOTONICS CONFERENCE, SBFOTON IOPC 2024; v. N/A, p. 3-pg., 2024-01-01.

Resumo

This study develops a novel multi-step sputtering process to fabricate 150 nm thick TiO2 films in the pure anatase phase, overcoming challenges related to uncontrolled phase transitions during prolonged plasma exposure. By introducing a three-stage deposition approach with intervals, we achieve consistent phase purity and reproducibility. Raman spectroscopy and optical ellipsometry confirm the effectiveness of this method. The multi-step sputtering process is applied to the fabrication of TiO2 waveguides by thermal scanning probe lithography. (AU)

• Processo FAPESP: 22/11596-0 - EMU científico: aquisição de equipamentos de transmissão e caracterização para enlaces de dados em altíssima velocidade
• Beneficiário: Darli Augusto de Arruda Mello
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa Infraestrutura - Científico
• Processo FAPESP: 21/11380-5 - CPTEn - Centro Paulista de Estudos da Transição Energética
• Beneficiário: Luiz Carlos Pereira da Silva
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Centros de Ciência para o Desenvolvimento
• Processo FAPESP: 21/00199-8 - Redes e serviços inteligentes rumo 2030 (SMARTNESS)
• Beneficiário: Christian Rodolfo Esteve Rothenberg
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa Centros de Pesquisa em Engenharia