Sintese, tratamento e propriedades de filmes amorfos obtidos por pecvd e filamento quente.

• Processo: 03/12775-5
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de maio de 2004
• Data de Término da vigência: 30 de abril de 2006
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Mário Antonio Bica de Moraes
• Beneficiário: Mário Antonio Bica de Moraes
• Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Materiais nanoestruturados Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Deposicao De Oxidos | Irradiacao Ionica | Materiais De Intercalacao | Materiais Nanoestruturados | Pecvd

Resumo

Propõe-se uma investigação em filmes finos dentro dos seguintes temas: (1) filmes de óxidos de metais de transição; (2) filmes de baixa constante dielétrica; (3) modificação de filmes de polímero por irradiação iônica. Os estudos da parte (1) tratarão do efeito eletrocrômico e do processo de armazenamento de carga em filmes de WOX e MoOX sintetizados pela técnica de filamento quente (HFMOD). A formação de filmes de outros óxidos metálicos por HFMOD e suas propriedades serão investigadas. Na parte (2) se investigará a obtenção de materiais de baixo valor de constante dielétrica (materiais de baixo-K) por PECVD a partir de misturas de gases. Também serão estudados filmes de materiais nanoestruturados, compostos pelas fases silicato e carbono amorfo hidrogenado, promissores como materiais de baixo-K. Finalmente, a parte (3) será dedicada principalmente ao estudo da transformação de polímeros obtidos por PECVD em materiais cerâmicos, em função dos diversos parâmetros da irradiação, tais como energia, fluência e natureza dos íons incidentes. (AU)

Publicações científicas

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

GELAMO‚ R.V.; DURRANT‚ S.F.; TRASFERETTI‚ B.C.; DAVANZO‚ C.U.; ROUXINOL‚ F.P.M.; BICA DE MORAES‚ M.A.. Helium Ion Irradiation of Polymer Films Deposited from TMS-Ar Plasmas. Plasma Processes and Polymers, v. 4, n. 4, p. 489-496, 2007. (03/12775-5)

GELAMO‚ R.V.; LANDERS‚ R.; ROUXINOL‚ F.P.M.; TRASFERETTI‚ B.C.; BICA DE MORAES‚ M.A.; DAVANZO‚ C.U.; DURRANT‚ S.F.. XPS Investigation of Plasma-Deposited Polysiloxane Films Irradiated with Helium Ions. Plasma Processes and Polymers, v. 4, n. 4, p. 482-488, 2007. (03/12775-5)