Caracterização de filmes finos amorfos produzidos por deposição a vapor químico

• Processo: 05/02797-7
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de janeiro de 2006
• Data de Término da vigência: 31 de março de 2008
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Steven Frederick Durrant
• Beneficiário: Steven Frederick Durrant
• Instituição Sede: Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus Experimental de Sorocaba. Sorocaba , SP, Brasil
• Assunto(s): Filmes finos Carbono amorfo Polimerização Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Caracterizacao De Filmes | Carbono Amorfo Hidrogenado | Filmes Finos | Nanoindentacao | Pecvd | Polimerizacao A Plasma | Polimerização a plasma

Resumo

Está pleiteado o material necessário para permitir a montagem de um sistema de deposição de filmes finos consistindo de uma camara de vácuo equipada com eletrodos e uma fonte, e alimentado com gases via fluxometros de alta precisão. Depois da montagem do sistema serão depositados varias séries de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado também contendo nitrogênio ou oxigênio. A estrutura e composição química dos filmes, além de propriedades mecânicas e ópticas, serão determinadas. Estudos fundamentais de filmes depositados de vapores de acetona e éter também são propostos. (AU)