Investigação experimental de impurezas magnéticas em óxidos: propriedades estruturais, eletrônicas e magnéticas

• Processo: 12/08309-8
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de fevereiro de 2013
• Data de Término da vigência: 28 de fevereiro de 2014
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Adilson Jesus Aparecido de Oliveira
• Beneficiário: Azucena Marisol Mudarra Navarro
• Instituição Sede: Centro de Ciências Exatas e de Tecnologia (CCET). Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR). São Carlos , SP, Brasil
• Assunto(s): Semicondutores magnéticos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: óxidos magnéticos | semicondutores magnéticos | Spitnrônica | Magnetismo E Materiais Magnéticos

Resumo

O estudo de óxidos magnéticos diluídos (DMO - diluted magnetic oxides) que são óxidos semicondutores dopados com metais 3d, tanto na forma de filmes finos como em "bulk" é um tema atual de pesquisa e tem despertado grande interesse devido as potencialidades de aplicações, em particular em gravação magnética e dispositivos para injeção de spin. Estes materiais têm apresentado comportamento ferromagnético com alta temperatura de Curie e são promissores candidatos para aplicações em spintrônica. O nosso grupo de pesquisa tem estudado sistematicamente esses materiais e tem dado importantes contribuições para a compreensão dos mecanismos de interação magnética. No presente projeto de pesquisa têm-se o objetivo é estudar sistemas baseados em óxidos semicondutores, dopados com impurezas magnéticas, para compreender a Física das propriedades estruturais, eletrônicas e magnéticas em sistemas impureza-hospedeiro, as quais, tem um alto potencial de interesse tecnológico. Neste contexto, o projeto está orientado a sínteses, processamento e caraterização de óxidos semicondutores, dopados com impurezas magnéticas preparadas por métodos químicos e de filmes finos de óxidos semicondutores, dopados com elementos de transição por ablação laser e por "sputtering".