Deposição por RF sputtering e caracterização de filmes finos ferroelétricos a base...
Síntese e caracterização de filmes finos com estrutura de camadas de bismuto
Síntese e caracterização de filmes finos com estrutura de camadas de bismuto
Processo: | 99/02485-2 |
Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado |
Data de Início da vigência: | 01 de agosto de 1999 |
Data de Término da vigência: | 20 de fevereiro de 2001 |
Área de conhecimento: | Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada |
Pesquisador responsável: | José Antonio Eiras |
Beneficiário: | Eudes Borges de Araújo |
Instituição Sede: | Centro de Ciências Exatas e de Tecnologia (CCET). Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR). São Carlos , SP, Brasil |
Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Chaveamento | Constante Dieletrica | Ferroeletricos | Filmes Finos | Piezoeletricidade | Pzt |
Resumo O seguinte projeto propõe a síntese de filmes finos ferroelétricos e a caracterização segundo suas propriedades estruturais, dielétricas e ferroelétricas. Filmes de PZT e SBN serão obtidos a partir de um método de precursores óxidos. Os filmes de PZT serão dopados com Fe e Nb visando estudar a influência desses dopantes nos parâmetros ferroelétricos. A caracterização dos filmes envolverá microscopia eletrônica de varredura, difração de raios-x, constante dielétrica em função da freqüência e de um campo elétrico dc aplicado, ciclos de histereses ferroelétrica e transiente de corrente. (AU) | |
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