Deposicao vpd "vapour-phase deposition" de silicia vitrea para fibras opticas.
Caracterização estrutural da preforma porosa (soot) de sílica vítrea VPD por difra...
Desenvolvimento de sílica vítrea (preforma) para fibras ópticas pelo processo VAD
Processo: | 99/02589-2 |
Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Mestrado |
Data de Início da vigência: | 01 de julho de 1999 |
Data de Término da vigência: | 31 de março de 2001 |
Área de conhecimento: | Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos |
Pesquisador responsável: | Carlos Kenichi Suzuki |
Beneficiário: | Edmilton Gusken |
Instituição Sede: | Faculdade de Engenharia Mecânica (FEM). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil |
Assunto(s): | Análise química Sílica vítrea Dopagem eletrônica Deposição axial na fase vapor Fibra óptica Espectrometria de fluorescência |
Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Analise Quimica | Dopagem Com Germanio | Fluorescencia De Raios X | Silica Vitrea | Tecnologia Vad |
Resumo Para se produzir fibras ópticas de baixa atenuação é necessário que se tenha sílica vítrea de ultra alta pureza, e em fibras mono-modo a dopagem no núcleo da fibra tem a função de diminuir a dispersão do feixe dentro da mesma. Particularmente para o desenvolvimento da tecnologia VAD (Vapor-phase Axial Deposition), no LIQC, Laboratório do Ciclo Integrado de Quartzo da Unicamp, a primeira iniciativa em todo hemisfério Sul, toma-se necessário conhecer o efeito da dopagem do Ge02 durante os diversos estágios do processamento da preforma de fibras ópticas, (deposição, "dehydration" e consolidação). Serão analisados os materiais dopados com Ge02, observando-se o comportamento da concentração, que será efetuada em todas as fases do processo VAD. Usando a técnica de Espectrometria de Fluorescência de Raios-X, sendo os resultados correlacionados com os parâmetros do processo de preparação. (AU) | |
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