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Processo de fabricação de HBT em camadas de InGaP/GaAs

Texto completo
Autor(es):
Ricardo Toshinori Yoshioka
Número total de Autores: 1
Tipo de documento: Tese de Doutorado
Imprenta: Campinas, SP.
Instituição: Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação
Data de defesa:
Membros da banca:
Jacobus Willibrordus Swart
Orientador: Jacobus Willibrordus Swart
Processo FAPESP: 96/00550-3 - Desenvolvimento de fabricacao de hbts e o estudo de suas estruturas.
Beneficiário:Ricardo Toshinori Yoshioka
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado