| Texto completo | |
| Autor(es): |
Dias, V. M.
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Chiappim, W.
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Fraga, M. A.
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Maciel, H. S.
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Marciano, F. R.
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Pessoa, R. S.
[1, 5]
Número total de Autores: 6
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| Afiliação do(s) autor(es): | [1] Inst Tecnol Aeronaut, Lab Plasmas & Proc, BR-12228900 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil
[2] Univ Vale Paraiba, Lab Nanotecnol & Proc Plasma, BR-12244000 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil
[3] Univ Aveiro, I3N, Dept Fis, Campus Univ Santiago, P-3810193 Aveiro - Portugal
[4] Univ Fed Sao Paulo, Inst Ciencia & Tecnol, BR-12231280 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil
[5] Univ Brasil, Inst Ciencia & Tecnol, BR-08230030 Sao Paulo, SP - Brazil
[6] Univ Fed Piaui, BR-64049550 Teresina, PI - Brazil
Número total de Afiliações: 6
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| Tipo de documento: | Artigo Científico |
| Fonte: | MATERIALS RESEARCH EXPRESS; v. 7, n. 7 JUL 2020. |
| Citações Web of Science: | 0 |
| Resumo | |
Titanium dioxide (TiO2) and aluminum oxide (Al2O3) thin films, with thicknesses around 100 nm, were grown on commercial pure- and resin-coated Al substrates using the atomic layer deposition (ALD). A comprehensive and comparative study of corrosion protection was carried out by linear sweep voltammetry (LSV) and electrochemical impedance spectroscopy (EIS) measurements for a set of six samples: two reference samples (Al-bare and Al-resin), and four ALD coated samples (Al-TiO2, Al-Al2O3, Al-resin-TiO2, and Al-resin-Al2O3). The LSV and EIS results display good mutual agreement, indicating a higher protection efficiency of all ALD-coated samples after immersion in NaCl. When compared to Al-bare, all ALD coated samples (TiO2 or Al2O3) showed a corrosion inhibition enhancement factor of 99%. Besides, our results demonstrated that Al-resin+Al2O3 has 24.95% and 33.40% more corrosion inhibition than Al-Al2O3 and Al-resin, respectively. EIS data were fitted by an equivalent electric circuit (EEC). The Nyquist and Bode plots from the experiments showed that ALD films are a potential candidate for altering/improving commercial resin-coated Al cans. (AU) | |
| Processo FAPESP: | 18/01265-1 - Síntese e análise microbiológica de substratos poliméricos recobertos com filmes ultra-finos de TiO2 e/ou Al2O3 pela tecnologia de deposição por camada atômica |
| Beneficiário: | Rodrigo Savio Pessoa |
| Modalidade de apoio: | Auxílio à Pesquisa - Regular |
| Processo FAPESP: | 14/18139-8 - Estudos de crescimento e de dopagens de diamante-CVD mono cristalino, colorido via descarga em mW 2,45 GHz de alta potência |
| Beneficiário: | Mariana Amorim Fraga |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado |
| Processo FAPESP: | 16/17826-7 - Fabricação de células solares MOS utilizando estruturas Al/TiO2/SiO2/Si |
| Beneficiário: | William Chiappim Junior |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado |