Deposição de filmes de carbono tipo diamante sobre substratos metálicos por meio de técnica de implantação iônica por imersão em plasma

• Processo: 05/03438-0
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Mestrado
• Data de Início da vigência: 01 de setembro de 2006
• Data de Término da vigência: 13 de julho de 2008
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Mario Ueda
• Beneficiário: Lilian Hoshida
• Instituição Sede: Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Ministério da Defesa (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Assunto(s): Deposição de filmes finos Filmes finos de carbono tipo diamante (DLC) Pulverização catódica Tecnologia de plasma Implantação iônica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Carbono Tipo Diamante | Dlc | Magnetron Sputtering | Materiais | Plasma | Carbono tipo diamante

Resumo

Os filmes de carbono tipo diamante (DLC) fazem parte de uma família de materiais denominadas avançadas, por possuírem propriedades físico-quimicas que possibilitam seu uso numa grande variedade de aplicações de alto valor agregado. Suas propriedades exploradas incluem alta resistência ao desgaste, baixo coeficiente de atrito, quimicamente inerte, transparente no infravermelho, alta resistividade elétrica e constante dielétrica baixa.Os filmes de DLC serão depositados sobre substratos metálicos, tais como o aço inoxidável, ligas de alumínio e ligas de titânio por meio da técnica de implantação iônica por imersão em plasma (IIIP) a partir de gases como o metano e acetileno. Serão realizadas também deposições híbridas compondo o IIIP com "magnetron sputtering" de alvos de carbono, controlando o teor de hidrogênio no interior do filme e consequentemente a dureza do material depositado.Após a deposição dos filmes, serão realizadas caracterizações quanto às suas propriedades estruturais, morfológicas, mecânicas e tribológicas com auxilio de técnicas, tais como: espectroscopia Raman, AFM, RBS, perfilometria e tribometria.Os tratamentos por IIIP e IIIP + magnetron sputtering serão realizados no Laboratório Associado de Plasma (LAP) do INPE. E as caracterizações já citadas, em laboratórios com os quais o grupo do LAP mantém colaboração científica. (AU)