15th International Conference on Atomic Layer Deposition

• Processo: 15/05956-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Vigência: 28 de junho de 2015 - 01 de julho de 2015
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
• Pesquisador responsável: Rodrigo Savio Pessoa
• Beneficiário: Rodrigo Savio Pessoa
• Instituição Sede: Instituto de Pesquisa e Desenvolvimento (IP&D). Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP). São José dos Campos , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 11/50773-0 - Núcleo de excelência em física e aplicações de plasmas, AP.TEM
• Assunto(s): Filmes finos Deposição de camada atômica Células solares Fotoeletroquímica Óxidos semicondutores Silício Eventos científicos e de divulgação Reuniões científicas
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Atomic Layer Deposition | Atomic layer etching | Células solares fotoeletroquímicas | Filmes finos | óxidos semicondutores | silício | Processos de deposição de materiais

Publicações científicas

(9)

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; MORAES, R. S.; PESSOA, R. S.; SAGAS, J. C.; ORIGO, F. D.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Structural, morphological, and optical properties of TiO2 thin films grown by atomic layer deposition on fluorine doped tin oxide conductive glass. VACUUM, v. 123, p. 91-102, JAN 2016. (11/50773-0, 15/05956-0)

DIAS, VANESSA; MACIEL, HOMERO; FRAGA, MARIANA; LOBO, ANDERSON O.; PESSOA, RODRIGO; MARCIANO, FERNANDA R.. Atomic Layer Deposited TiO2 and Al2O3 Thin Films as Coatings for Aluminum Food Packaging Application. MATERIALS, v. 12, n. 4, FEB 2 2019. (14/18139-8, 11/50773-0, 11/17877-7, 12/15857-1, 11/20345-7, 16/00575-1, 15/05956-0, 15/09697-0, 18/01265-1, 15/10876-6)

CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DORIA, A. C. O. C.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; GALVAO, N. K. A. M.; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Relationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2 films: the influence of O-2 plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode. Nanotechnology, v. 27, n. 30, JUL 29 2016. (11/50773-0, 15/05956-0, 15/10876-6)

CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DORIA, A. C. O. C.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; GALVAO, N. K. A. M.; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Relationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2 films: the influence of O-2 plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode. Nanotechnology, v. 27, n. 30, p. 15-pg., 2016-07-29. (11/50773-0, 15/05956-0, 15/10876-6)

RODRIGUES, BRUNO V. M.; DIAS, VANESSA M.; FRAGA, MARIANA A.; DA SILVA SOBRINHO, ARGEMIRO S.; LOBO, ANDERSON O.; MACIEL, HOMERO S.; PESSOA, RODRIGO S.. Atomic layer deposition of TiO2 thin films on electrospun poly (butylene adipate-co-terephthalate) fibers: Freestanding TiO2 nanostructures via polymer carbonization. MATERIALS TODAY-PROCEEDINGS, v. 14, p. 7-pg., 2019-01-01. (15/10876-6, 17/18826-3, 15/09697-0, 11/50773-0, 12/15857-1, 11/20345-7, 16/00575-1, 15/05956-0, 18/01265-1)

CHIAPPIM, WILLIAM; WATANABE, MARCOS; DIAS, VANESSA; TESTONI, GIORGIO; RANGEL, RICARDO; FRAGA, MARIANA; MACIEL, HOMERO; DOS SANTOS FILHO, SEBASTIAO; PESSOA, RODRIGO. MOS Capacitance Measurements for PEALD TiO2 Dielectric Films Grown under Different Conditions and the Impact of Al2O3 Partial-Monolayer Insertion. NANOMATERIALS, v. 10, n. 2, FEB 2020. (18/01265-1, 15/05956-0, 11/50773-0, 15/10876-6, 16/17826-7)

PESSOA, R. S.; DOS SANTOS, V. P.; CARDOSO, S. B.; DORIA, A. C. O. C.; FIGUEIRA, F. R.; RODRIGUES, B. V. M.; TESTONI, G. E.; FRAGA, M. A.; MARCIANO, F. R.; LOBO, A. O.; et al. TiO2 coatings via atomic layer deposition on polyurethane and polydimethylsiloxane substrates: Properties and effects on C. albicans growth and inactivation process. Applied Surface Science, v. 422, p. 73-84, NOV 15 2017. (11/50773-0, 12/15857-1, 11/17877-7, 11/20345-7, 15/10876-6, 15/09697-0, 15/08523-8, 16/00575-1, 15/05956-0)

TESTONI, G. E.; CHIAPPIM, W.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; MIYAKAWA, W.; SAKANE, K. K.; GALVAO, N. K. A. M.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Influence of the Al2O3 partial-monolayer number on the crystallization mechanism of TiO2 in ALD TiO2/Al2O3 nanolaminates and its impact on the material properties. JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, v. 49, n. 37, SEP 21 2016. (11/50773-0, 15/05956-0)

CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DE LIMA, J. S. B.; MEDEIROS, H. S.; PESSOA, RODRIGO SAVIO; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Effect of Process Temperature and Reaction Cycle Number on Atomic Layer Deposition of TiO2 Thin Films Using TiCl4 and H2O Precursors: Correlation Between Material Properties and Process Environment. Brazilian Journal of Physics, v. 46, n. 1, p. 56-69, FEB 2016. (11/50773-0, 15/05956-0)