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15th International Conference on Atomic Layer Deposition

Processo: 15/05956-0
Linha de fomento:Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
Vigência: 28 de junho de 2015 - 01 de julho de 2015
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
Pesquisador responsável:Rodrigo Savio Pessoa
Beneficiário:Rodrigo Savio Pessoa
Instituição-sede: Instituto de Pesquisa e Desenvolvimento (IP&D). Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP). São José dos Campos , SP, Brasil
Vinculado ao auxílio:11/50773-0 - Núcleo de excelência em física e aplicações de plasmas, AP.TEM
Assunto(s):Filmes finos  Deposição de camada atômica  Células solares  Fotoeletroquímica  Óxidos semicondutores  Silício  Eventos científicos e de divulgação 

Publicações científicas (6)
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
DIAS, VANESSA; MACIEL, HOMERO; FRAGA, MARIANA; LOBO, ANDERSON O.; PESSOA, RODRIGO; MARCIANO, FERNANDA R. Atomic Layer Deposited TiO2 and Al2O3 Thin Films as Coatings for Aluminum Food Packaging Application. MATERIALS, v. 12, n. 4 FEB 2 2019. Citações Web of Science: 1.
PESSOA, R. S.; DOS SANTOS, V. P.; CARDOSO, S. B.; DORIA, A. C. O. C.; FIGUEIRA, F. R.; RODRIGUES, B. V. M.; TESTONI, G. E.; FRAGA, M. A.; MARCIANO, F. R.; LOBO, A. O.; MACIEL, H. S. TiO2 coatings via atomic layer deposition on polyurethane and polydimethylsiloxane substrates: Properties and effects on C. albicans growth and inactivation process. Applied Surface Science, v. 422, p. 73-84, NOV 15 2017. Citações Web of Science: 9.
TESTONI, G. E.; CHIAPPIM, W.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; MIYAKAWA, W.; SAKANE, K. K.; GALVAO, N. K. A. M.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S. Influence of the Al2O3 partial-monolayer number on the crystallization mechanism of TiO2 in ALD TiO2/Al2O3 nanolaminates and its impact on the material properties. JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, v. 49, n. 37 SEP 21 2016. Citações Web of Science: 11.
CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DORIA, A. C. O. C.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; GALVAO, N. K. A. M.; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S. Relationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2 films: the influence of O-2 plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode. Nanotechnology, v. 27, n. 30 JUL 29 2016. Citações Web of Science: 10.
CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DE LIMA, J. S. B.; MEDEIROS, H. S.; PESSOA, RODRIGO SAVIO; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S. Effect of Process Temperature and Reaction Cycle Number on Atomic Layer Deposition of TiO2 Thin Films Using TiCl4 and H2O Precursors: Correlation Between Material Properties and Process Environment. Brazilian Journal of Physics, v. 46, n. 1, p. 56-69, FEB 2016. Citações Web of Science: 12.
CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; MORAES, R. S.; PESSOA, R. S.; SAGAS, J. C.; ORIGO, F. D.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S. Structural, morphological, and optical properties of TiO2 thin films grown by atomic layer deposition on fluorine doped tin oxide conductive glass. VACUUM, v. 123, p. 91-102, JAN 2016. Citações Web of Science: 21.

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