Estudo da resistência à corrosão de revestimentos híbridos siloxano-PMMA aplicados sobre a liga AA7050

• Processo: 09/16975-5
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de março de 2010
• Data de Término da vigência: 31 de julho de 2010
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
• Pesquisador responsável: Celso Valentim Santilli
• Beneficiário: Marina Magnani
• Instituição Sede: Instituto de Química (IQ). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Araraquara. Araraquara , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 07/53073-4 - Cerâmicas mesoporosas e hibridos orgânico-inorgânicos multifuncionais preparados pelo processo sol-gel, AP.TEM
• Assunto(s): Eletroquímica Processo sol-gel Corrosão dos materiais
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: corrosão | Eletroquímica | Liga de Alumínio | polisiloxano | Processo sol-gel | revestimentos híbridos | Materiais Metálicos

Resumo

Apesar da eficiência a corrosão dos sistemas a base de cromo hexavalente (Cr+6), o uso desse metal em revestimentos foi proibido em diversos países devido a sua elevada toxicidade. Em virtude disso, a comunidade científica, busca o desenvolvimento de substitutos ambientalmente amigáveis, para o emprego e tratamento de ligas de alumínio utilizadas na indústria aeronáutica. Neste trabalho, filmes híbridos a base de polisiloxano serão depositados sobre a liga AA7050 por dip-coating a partir de um sol preparado via catálise ácida com a hidrólise e co-policondensação do tetraetoxi silano (TEOS) e 3- metacriloxipropril trimetoxi silano (MPTS), seguido da polimerização radicalar dos grupos metacrilato. Com o intuito de melhorar ainda mais as propriedades anticorrosivas do sistema, íons Ce, Ti e Zn serão adicionados na matriz híbrida PMMA-SiO2.Os estudos eletroquímicos serão realizados utilizando medidas de espectroscopia de impedância eletroquímica (EIS), e medidas de resistência de polarização linear em solução de NaCl 3,5%. As características físico-químicas dos filmes serão analisadas por ressonância magnética nuclear (RMN) de 13C e 29Si, microscopia Raman, espectroscopia foto eletrônica de raios X (XPS). A resistência ao desgaste e a morfologia do filme dopado ou não com íons Ce, Ti e Zn será analisada por ensaios de pin-on-disk e por microscopias de força atômica (AFM) e eletrônica de varredura (SEM) respectivamente; o mapeamento dos elementos químicos será feito por energia dispersiva de raios (EDS). A adesão do filme também será analisada. (AU)