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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

TiO2 coatings via atomic layer deposition on polyurethane and polydimethylsiloxane substrates: Properties and effects on C. albicans growth and inactivation process

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Autor(es):
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Pessoa, R. S. [1, 2, 3, 4] ; dos Santos, V. P. [2] ; Cardoso, S. B. [3] ; Doria, A. C. O. C. [2] ; Figueira, F. R. [2] ; Rodrigues, B. V. M. [3, 4] ; Testoni, G. E. [4] ; Fraga, M. A. [3, 5] ; Marciano, F. R. [6, 3, 7, 8] ; Lobo, A. O. [6, 3, 7, 8] ; Maciel, H. S. [1, 2, 3]
Número total de Autores: 11
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Univ Vale Paraiba Univap, Nanotechnol & Plasmas Proc Lab, BR-12244000 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil
[2] Univ Vale Paraiba Univap, Biotechnol & Elect Plasmas Lab, BR-12244000 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil
[3] Univ Brasil, Rua Carolina Fonseca 235, BR-08230030 Sao Paulo - Brazil
[4] Inst Tecnol Aeronout ITA DCTA, Ctr Ciencia & Tecnol Plasmas & Mat PlasMat, BR-12228900 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil
[5] Inst Nacl Pesquisas Espaciais, Associate Lab Sensors & Mat, BR-12227010 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil
[6] Northeastern Univ, Dept Chem Engn, Boston, MA 02115 - USA
[7] Univ Vale Paraiba Univap, Lab Biomed Nanotechnol, BR-12244000 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil
[8] Harvard Med Sch, Brigham & Womens Hosp, Dept Med, Biomat Innovat Res Ctr, Cambridge, MA 02139 - USA
Número total de Afiliações: 8
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Applied Surface Science; v. 422, p. 73-84, NOV 15 2017.
Citações Web of Science: 8
Resumo

Atomic layer deposition (ALD) surges as an attractive technology to deposit thin films on different substrates for many advanced biomedical applications. Herein titanium dioxide (TiO2) thin films were successful obtained on polyurethane (PU) and polydimethylsiloxane (PDMS) substrates using ALD. The effect of TiO2 films on Candida albicans growth and inactivation process were also systematic discussed. TiCl4 and H2O were used as precursors at 80 degrees C, while the reaction cycle number ranged from 500 to 2000. Several chemical, physical and physicochemical techniques were used to evaluate the growth kinetics, elemental composition, material structure, chemical bonds, contact angle, work of adhesion and surface morphology of the ALD TiO2 thin films grown on both substrates. For microbiological analyses, yeasts of standard strains of C. albicans were grown on non-and TiO2-coated substrates. Next, the antifungal and photocatalytic activities of the TiO2 were also investigated by counting the colony-forming units (CFU) before and after UV-light treatment. Chlorine-doped amorphous TiO2 films with varied thicknesses and Cl concentration ranging from 2 to 12% were obtained. In sum, the ALD TiO2 films suppressed the yeast-hyphal transition of C. albicans onto PU, however, a high adhesion of yeasts was observed. Conversely, for PDMS substrate, the yeast adhesion did not change, as observed in control. Comparatively to control, the TiO2-covered PDMS had a reduction in CFU up to 59.5% after UV treatment, while no modification was observed to TiO2-covered PU. These results pointed out that ALD chlorine-doped amorphous TiO2 films grown on biomedical polymeric surfaces may act as fungistatic materials. Furthermore, in case of contamination, these materials may also behave as antifungal materials under UV light exposure. (C) 2017 Published by Elsevier B.V. (AU)

Processo FAPESP: 15/05956-0 - 15th International Conference on Atomic Layer Deposition
Beneficiário:Rodrigo Savio Pessoa
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
Processo FAPESP: 15/08523-8 - Desenvolvimento de um nanosensor fluorescente a partir da eletrofiação de PVA e quantum dots de grafeno: aplicação na detecção de biomarcadores de Alzheimer
Beneficiário:Bruno Vinícius Manzolli Rodrigues
Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
Processo FAPESP: 11/17877-7 - Desenvolvimento de novos scaffolds poliméricos por eletrofiação com incorporação de nanotubos alinhados e nanohidroxiapatita para regeneração óssea
Beneficiário:Anderson de Oliveira Lobo
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores
Processo FAPESP: 16/00575-1 - Biomembranas funcionais a base de peptídeos e polímeros bottlebrush aplicados a engenharia de tecidos
Beneficiário:Fernanda Roberta Marciano
Linha de fomento: Bolsas no Exterior - Pesquisa
Processo FAPESP: 15/10876-6 - Interação plasma-biofilme fúngico: diagnóstico do plasma e do processo de inativação de cepas do gênero Candida spp
Beneficiário:Anelise Cristina Osorio Cesar Doria
Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Doutorado
Processo FAPESP: 11/20345-7 - Estudo de filmes de carbono-tipo diamante contendo nanopartículas incorporadas para aplicações biomédicas
Beneficiário:Fernanda Roberta Marciano
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores
Processo FAPESP: 11/50773-0 - Núcleo de excelência em física e aplicações de plasmas
Beneficiário:Ricardo Magnus Osório Galvão
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Temático
Processo FAPESP: 15/09697-0 - Eletrofiação de novos nanobiomateriais funcionais à base de peptídeos e polímeros bottlebrush para engenharia tecidual
Beneficiário:Anderson de Oliveira Lobo
Linha de fomento: Bolsas no Exterior - Pesquisa
Processo FAPESP: 12/15857-1 - Estudos científicos e aplicações inovadoras em diamante-CVD, Diamond-Like Carbon (DLC) e carbono nanoestruturado, obtidos por deposição química na fase vapor
Beneficiário:Vladimir Jesus Trava-Airoldi
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Temático