Busca avançada
Ano de início
Entree
(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

athodoluminescence mapping of electron concentration in MBE-grown GaAs:Te nanowire

Texto completo
Autor(es):
Tong, Capucine [1, 2] ; Bidaud, Thomas [2] ; Koivusalo, Eero [3] ; Piton, Marcelo Rizzo [3] ; Guina, Mircea [3] ; Avanco Galeti, Helder Vinicius [4] ; Gobato, Yara Galvao [5] ; Cattoni, Andrea [1, 2] ; Hakkarainen, Teemu [3] ; Collin, Stephane [1, 2]
Número total de Autores: 10
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Inst Photovolta Ile France IPVF, F-91120 Palaiseau - France
[2] Univ Paris Saclay, Ctr Nanosci & Nanotechnol C2N, CNRS, F-91120 Palaiseau - France
[3] Tampere Univ, Optoelect Res Ctr, Phys Unit, Korkeakoulunkatu 3, FI-33720 Tampere - Finland
[4] Univ Fed Sao Carlos, Elect Engn Dept, BR-13565905 Sao Carlos, SP - Brazil
[5] Univ Fed Sao Carlos, Phys Dept, BR-13565905 Sao Carlos, SP - Brazil
Número total de Afiliações: 5
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Nanotechnology; v. 33, n. 18 APR 30 2022.
Citações Web of Science: 0
Resumo

Cathodoluminescence mapping is used as a contactless method to probe the electron concentration gradient of Te-doped GaAs nanowires. The room temperature and low temperature (10 K) cathodoluminescence analysis method previously developed for GaAs:Si is first validated on five GaAs:Te thin film samples, before extending it to the two GaAs:Te NW samples. We evidence an electron concentration gradient ranging from below 1 x 10(18) cm(-3) to 3.3 x10(18) cm(-3) along the axis of a GaAs:Te nanowire grown at 640 degrees C, and a homogeneous electron concentration of around 6-8 x 10(17) cm(-3) along the axis of a GaAs:Te nanowire grown at 620 degrees C. The differences in the electron concentration levels and gradients between the two nanowires is attributed to different Te incorporation efficiencies by vapor-solid and vapor-liquid-solid processes. (AU)

Processo FAPESP: 14/50513-7 - Propriedades de transporte de heteroestruturas semicondutoras III-Bi-V para dispositivos fotônicos avançados
Beneficiário:Helder Vinícius Avanço Galeti
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
Processo FAPESP: 19/23488-5 - Dispositivos optoeletrônicos baseados em semicondutores bidimensionais
Beneficiário:Yara Galvão Gobato
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
Processo FAPESP: 19/07442-5 - Nanostruturas semicondutoras bismuto diluídas e novos materiais para aplicações no infravermelho médio
Beneficiário:Helder Vinícius Avanço Galeti
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular