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Akira J. Ikushima | Toyota Technological Institute - Japão

Grant number:01/03237-4
Support Opportunities:Research Grants - Visiting Researcher Grant - International
Start date: July 26, 2001
End date: August 02, 2001
Field of knowledge:Engineering - Materials and Metallurgical Engineering
Principal Investigator:Carlos Kenichi Suzuki
Grantee:Carlos Kenichi Suzuki
Visiting researcher:Akira J. Ikushima
Visiting researcher institution: Toyota Technological Institute (TTI) , Japan
Host Institution: Faculdade de Engenharia Mecânica (FEM). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brazil
City of the host institution:Campinas

Abstract

O desenvolvimento de preformas de sílica-germânia para fibras ópticas pela tecnologia VAD ("vapor-phase axial deposition") foi recentemente realizado no LIQC/UNICAMP. Atualmente, este grupo está atuando no desenvolvimento de novas propriedades em termos de menor atenuação e maior capacidade de transmissão, e em especial para a geração do segundo harmônico-GSH (efeito não-linear) em preformas de sílica-germânia. Por outro lado, o visitante, Prof. Akira Ikushima é o pioneiro no efeito GHS induzido por processo de "poling" assistido por luz ultravioleta em preformas vítreas de SiO2:GeO2 preparadas pelo método VAD. A interação com o Prof. Ikushima através desta visita poderá trazer grandes benefícios para o desenvolvimento de dispositivos fotônicos no país. O Prof. Ikushima deverá conduzir seminários e palestras, orientar diversas teses de pós-graduação e projetos de pós-doutorado, e interagir com vários outros grupos de pesquisa na UNICAMP e em outras instituições. (AU)

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