APARATO PARA REATOR A PLASMA, PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO DE FILME DE CARBONO PELO USO DO REFERIDO APARATO E CORRESPONDENTE FILME OBTIDO

Document type:	Patente
Inventor(s):	Lucia Vieira; Marcos Massi; Argemiro Soares da Silva Sobrinho; Homero Santiago Maciel; Rodrigo Sávio Pessoa; Sara Fernanda Fissmer; Leandro Lameirão Ferreira; Polyana Alves Radi Gonçalves

Applicant:	Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA) ; Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP)
Deposit date:	December 2014, 23
INPI register:	BR1020140323740
IPC:	B01J 19/08 B01J 2/00 C23C 16/02

FAPESP's process:	11/50773-0 - Center of excellence in physics and applications of plasmas
Grantee:	Ricardo Magnus Osório Galvão
Principal Investigator:	Ricardo Magnus Osório Galvão
Institution:	Universidade de São Paulo (USP). Instituto de Física (IF)
Support Opportunities:	Research Projects - Thematic Grants